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在現代半導體、科研實驗室、綜合廠房的集中供氣系統中，氣瓶柜、氣瓶架已經成為鋼瓶工藝氣體的配套性裝置。大多數特殊性氣體，如有毒性、易燃易爆性、自然性氣體多放置在特氣柜內，大宗普通惰性氣體使用氣瓶架一般就可以滿足用戶需求。那么易燃易爆特氣柜（GC）和毒性、腐蝕性特氣柜的配置一樣嗎？在設計初期有什么區別和注意事項，我們可以在項目建設初期合理規劃布局，從而安全使用。

特氣系統的硬件配置需求：

GC、GR可采用單工藝氣瓶外置吹掃氮氣（源）瓶（單瓶式）、雙工藝氣瓶外置吹掃氮氣、雙工藝氣瓶內置吹掃氮氣等多種結構配置。GC、GR 應設置作業用氣體面板。系統的供應能力應經過熱力學和流體力學計算核實。氣瓶柜閉門時應保持不低于100Pa負壓，柜內的排風換氣次數不得低于300次/H 。GC板材厚度不得低于2.5mm，并有放腐蝕涂層。GC門應具備自動關閉功能，并配備防爆玻璃觀察窗，地腳螺栓設計應滿足當地地震設防烈度的要求。

另外，結合不同氣體的不同性質，不相容氣體瓶嚴禁放置于同一氣瓶柜或氣瓶架中。自然性、可燃性、毒性、腐蝕性氣瓶柜應在排風出口設置氣體泄露偵測器。GC、GR應設置清晰明確的安全標識牌。我們做好規范相應的要求，才能確保用氣的萬無一失，給業主最大限度的安全保障。

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